VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪，其中一个靶头采用直流（DC）溅射，可溅射金属靶材制备金属膜，另一个采用射频（RF）溅射，可溅射金属和氧化物靶材，制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制作各种单层或多层薄膜，如铁电、导电，合金，半导体，陶瓷，介电，光学，氧化物和PTFE薄膜等。而且设备体积较小操作方便，是一套理想的实验工具。

GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪是依据二极（DC）直流溅射原理设计而成的最-简单、可靠、经济的镀膜设备。本机特别之处是在一个真空室内安装了三个靶，旋转样品台可依次在同一样品上涂覆三种材料。因此，适用于实验室各种复合膜样品的制备，以及非导体材料实验电极的制作。

GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪是依据二极（DC）直流溅射原理设计而成的最-简单、可靠、经济的镀膜设备，适用于实验室各种复合膜样品的制备，以及非导体材料实验电极的制作。

VTC-1RF是一款小型台式单靶等离子溅射仪(射频磁控型)，配有1英寸的磁控等离子溅射头和射频（RF）等离子电源，此款设备主要用于制作非导电薄膜，特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索，它是一款廉价并且高效的实验帮手。 VTC-1RF 1 英寸小型磁控射频溅射镀膜仪

VTC-2RF是一款小型的射频（RF）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF电源、2“的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜，它是一款物美价廉的实验帮手。 VTC-2RF 2英寸300W射频磁控溅射镀膜仪