小型等离子清洗机集成了RF等离子体发生技术、计算机控制技术、软件编程技术，采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。工作时外接一台真空泵，清洗腔内的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面，可短时间内*清洗掉有机污染物，清洗程度可达到分子级。另外，其样品台可选配加热功能，可加负偏压，用以实现离子蚀刻。此外，其可在特定条件下根据需要改变某些材料表面的性能。

PDC-36G 等离子清洗机是一种紧凑型、低成本的等离子清洗机。使用空气、氧气、氩气等离子去除纳米级有机物污染。在射频电源的作用下，去除速率大每分钟10纳米。在单晶材料外延薄膜生长以前进行预处理，对生长具有显著的作用 。

PCE-80是一款较大型的等离子清洗机，等离子腔体为 8.5 “dia x 12““L的石英腔体，采用的射频电源功率0 - 100W连续可调节。此款设备主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物，同时也可改变物体表面的性质（如亲水和疏水性等）。对于基片的清洗以及薄膜处理此款设备是较为理想的实验帮手。

PCE-500W是一款较大型的500W等离子刻蚀清洗机，等离子腔体为 8.5 “dia x 14.4“L的石英腔体，采用的射频电源频率为13.56MH，功率0 -500W连续可调节。此款设备功率高，可用于等离子刻蚀、等离子灰化、表面改性以及材料掺杂改性等应用，对于基片的清洗以及薄膜处理此款设备是较为理想的实验帮手。

GSL-1100X-PJF 等离子表面处理仪是一款紧凑的大气离子表面处理喷射系统，主要由射频发生器、离子束头组成。喷射的离子束流能在较低的温度和没有真空条件下，迅速活化和清理材料表面。例如单晶片、光学元件、塑料等广泛的材料。 为了获得高质量的外延薄膜或者光学涂层，预先进行表面处理可以得到显著的效果。