PCE-80是一款较大型的等离子清洗机，等离子腔体为 8.5 “dia x 12““L的石英腔体，采用的射频电源功率0 - 100W连续可调节。此款设备主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物，同时也可改变物体表面的性质（如亲水和疏水性等）。对于基片的清洗以及薄膜处理此款设备是较为理想的实验帮手。

PCE-500W是一款较大型的500W等离子刻蚀清洗机，等离子腔体为 8.5 “dia x 14.4“L的石英腔体，采用的射频电源频率为13.56MH，功率0 -500W连续可调节。此款设备功率高，可用于等离子刻蚀、等离子灰化、表面改性以及材料掺杂改性等应用，对于基片的清洗以及薄膜处理此款设备是较为理想的实验帮手。

GSL-1100X-PJF 等离子表面处理仪是一款紧凑的大气离子表面处理喷射系统，主要由射频发生器、离子束头组成。喷射的离子束流能在较低的温度和没有真空条件下，迅速活化和清理材料表面。例如单晶片、光学元件、塑料等广泛的材料。 为了获得高质量的外延薄膜或者光学涂层，预先进行表面处理可以得到显著的效果。

GSL-1100X-PJF-A是等离子枪和可控制的样品台结合在一起的产品，有自动控制的样品台，就可使等离子枪按设定程序对样品表面进行更均匀涂覆和处理，保证处理样品表面的*性和均匀性。此系统是由RF发生器、气体传输管、等离子枪头和X-Y移动的工作台（带有真空吸盘和控制盒）。此系统产生等离子束可在非真空和低温状态下活化和清洗样品表面，可处理的样品有单晶片，光学元件和塑料等，也可在常压下进行等离子增强

石英圆形真空腔体，腔体处理温度低，避免长时间等离子处理造成的腔体温度过高，确保对样品表面没有造成热影响。